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TFC-6650C化學氣相沉積(MPCVD)設備品牌
碳方程產(chǎn)地
山西樣本
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TFC-6650C,微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備是***的 CVD 系統(tǒng)。針對用戶的具體要求設計和研制的一臺多用途、高穩(wěn)定中等壓強微波等離子體綜合設備。它具有智能化生長、性能先進、功能完 善、結構合理,使用方便、安全可靠、外形美觀等特點,特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積;材料表面處理和改性;低溫氧化物的生長等領域。
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