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器簡(jiǎn)介：射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS
射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗
技術(shù)參數(shù)：
射頻離子源
安裝法蘭口徑：NW63CF，NW100CF
真空腔體內(nèi)長(zhǎng)度：290mm
真空腔體內(nèi)端面直徑：57mm， 96mm
兼容氣體：O2， N2， H2， Ar
水冷
射頻功率：30-600W
氣體流量：8-10sccm
束流能量：0.1-1kev
電流密度：可大到5mA/cm2
射頻原子源
安裝法蘭口徑：NW35CF，NW63CF，NW100CF
真空腔體內(nèi)長(zhǎng)度：290mm
真空腔體內(nèi)端面直徑：34mm，57mm， 96mm
兼容氣體：O2， N2， H2， CH4
水冷
射頻功率：30-600W
氣體流量：0.01-20sccm
主要特點(diǎn)：
無(wú)燈絲
安裝容易，可方便地安裝在已有系統(tǒng)上
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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