看了磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)的用戶又看了
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技術(shù)參數(shù):我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶槍
安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF
真空腔體內(nèi)長度范圍:150-400mm
真空腔體內(nèi)端面直徑:60-96
靶材直徑: 1", 2" and 3"
靶材**厚度:4-6mm
冷卻:水冷
特點:
100%超高真空(UHV)應(yīng)用
獨有的放射性沉積模式
在線Z軸驅(qū)動及傾斜
水冷時不會存在水汽
平衡靶和非平衡靶設(shè)計
高強度磁體應(yīng)用于磁性材料
應(yīng)用領(lǐng)域:
PVD沉積
金屬涂層
納米結(jié)構(gòu)薄膜
多層鍍層
反應(yīng)濺射
射頻濺射,直流濺射,脈沖直流濺射
硬質(zhì)涂層
暫無數(shù)據(jù)!