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面議型號(hào)
SAB6100-半自動(dòng) 超高真空常溫鍵合設(shè)備品牌
青禾晶元產(chǎn)地
天津樣本
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SAB6100是一款專為半導(dǎo)體及異質(zhì)材料鍵合設(shè)計(jì)的研發(fā)型設(shè)備,采用常溫鍵合技術(shù),在超高真空下實(shí)現(xiàn)材料表面原子級(jí)活化與直接鍵合,無(wú)需加熱即可形成高強(qiáng)度共價(jià)鍵。設(shè)備兼容全尺寸及不規(guī)則形狀樣品,可選配獨(dú)立鍍膜腔體,工藝穩(wěn)定且產(chǎn)能高效。
全尺寸兼容鍵合
適用于不同尺寸樣品的鍵合需求,包含不規(guī)則形狀樣品;
冷泵超快抽真空
設(shè)備主腔體配備冷泵,實(shí)現(xiàn)快速超高真空環(huán)境,且有效減少水汽對(duì)鍵合的影響;
離子源活化與納米薄膜原位沉積
采用穩(wěn)定離子源高效清潔表面氧化物及污染物,并可轟擊靶材實(shí)現(xiàn)納米級(jí)薄膜濺射沉積;
倒置防塵鍵合
樣品運(yùn)動(dòng)過(guò)程中鍵合面朝下,有效減少particle對(duì)鍵合的影響;
規(guī)格參數(shù)
項(xiàng) 目
指 標(biāo)
晶圓尺寸
≤12inch, 向下兼容不規(guī)則形狀樣品
適配材料
Si, LT/LN, Sapphire, InP, SiC, GaAs, GaN, Diamond, Glass etc.
上料模式
手動(dòng)上料
加壓系統(tǒng)**壓力
80kN
表面處理方式
原位活化與濺射沉積
濺射靶材
≥3個(gè),可旋轉(zhuǎn)
鍵合強(qiáng)度
≥2.5J/m2@常溫(Si-Si、玻璃-玻璃鍵合)
暫無(wú)數(shù)據(jù)!