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無應(yīng)力拋光設(shè)備
無應(yīng)力拋光設(shè)備

參考價格

面議

型號

無應(yīng)力拋光設(shè)備

品牌

盛美半導(dǎo)體

產(chǎn)地

美國

樣本

暫無
盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司

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主要優(yōu)勢

工藝過程低應(yīng)力

低耗材成本COC和運營成本COO

低排放可保護(hù)環(huán)境


特性和規(guī)格

整合了無應(yīng)力拋光、化學(xué)機(jī)械研磨、濕法刻蝕、干法刻蝕工藝

電拋光液和濕法刻蝕液可實時循環(huán)使用

減少化學(xué)和耗材使用量

設(shè)備尺寸（mm）：4100(長)*2600(寬)*2650(高)


關(guān)鍵應(yīng)用

序號應(yīng)用描述使用化學(xué)
1雙大馬士革工藝超低K銅互連CMP+SFP+Clean+TFESlurry,Electrolyte,DHF,Xef2
2雙大馬士革工藝5nm及以下釕阻擋層互連結(jié)構(gòu)CMP+SFP+Clean+Wet EtchSlurry,Electrolyte,Etchant
3晶圓級封裝
（3D硅通孔，2.5D轉(zhuǎn)接板，再布線，扇出）		CMP+SFP+Clean+Wet EtchElectrolyte,Slurry,Etchant


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