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ASML二手i-line光刻機(jī)XT:400G品牌
佳鼎半導(dǎo)體產(chǎn)地
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TWINSCAN XT:400G 365 nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種超高生產(chǎn)率的雙級(jí)光刻工具,專為350 nm分辨率的300 mm晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)。TWINSCAN平臺(tái)的雙晶圓級(jí)技術(shù)使一個(gè)晶圓的曝光和下一個(gè)晶圓的對(duì)準(zhǔn)和映射能夠并行進(jìn)行,從而實(shí)際上消除了開銷時(shí)間,并允許晶圓的連續(xù)圖案化。
此外,高強(qiáng)度5.5千瓦汞燈和快速工作臺(tái)通過**限度地減少每個(gè)場(chǎng)的曝光掃描時(shí)間和場(chǎng)之間的步進(jìn)時(shí)間,確保了**的生產(chǎn)率。液位傳感器與TWINSCAN調(diào)平方法相結(jié)合,實(shí)際上消除了內(nèi)模和邊緣模之間的差異,并確保整個(gè)300 mm晶圓的高成品率。高通量和產(chǎn)量與快速的十字線交換時(shí)間和批量流相結(jié)合,以提供*低的運(yùn)營(yíng)成本。
TWINSCAN XT:400G 365 nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種超高生產(chǎn)率的雙級(jí)光刻工具,專為350 nm分辨率的300 mm晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)。TWINSCAN平臺(tái)的雙晶圓級(jí)技術(shù)使一個(gè)晶圓的曝光和下一個(gè)晶圓的對(duì)準(zhǔn)和映射能夠并行進(jìn)行,從而實(shí)際上消除了開銷時(shí)間,并允許晶圓的連續(xù)圖案化。
此外,高強(qiáng)度5.5千瓦汞燈和快速工作臺(tái)通過**限度地減少每個(gè)場(chǎng)的曝光掃描時(shí)間和場(chǎng)之間的步進(jìn)時(shí)間,確保了**的生產(chǎn)率。液位傳感器與TWINSCAN調(diào)平方法相結(jié)合,實(shí)際上消除了內(nèi)模和邊緣模之間的差異,并確保整個(gè)300 mm晶圓的高成品率。高通量和產(chǎn)量與快速的十字線交換時(shí)間和批量流相結(jié)合,以提供*低的運(yùn)營(yíng)成本。
暫無數(shù)據(jù)!