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產(chǎn)品摘要

該設(shè)備配備了多個磁控濺射源，能夠沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料，并可用于濺射多層薄膜和共濺合金薄膜。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點：

★一體化設(shè)計精細布局，更節(jié)省的空間和更精致的外形，可添加進樣功能

★4支2-4英寸磁控濺射靶，可濺射2-8寸的硅片，托盤8英寸內(nèi)均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★西門子PLC+觸摸屏手自動控制或電腦+PLC全自動控制可選

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：1450×1250×1850/2200×1700×2200

★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：500×500×500/600×600×500

★基片臺：襯底**加熱溫度500-800℃

★真空極限：5×10-5Pa

★抽速保壓：8×10-4Pa≤30min保壓12小時≤8pa     

★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★濺射靶槍四個（2-3英寸/2-4英寸）濺射尺寸2-6英寸