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產(chǎn)品摘要

該系列設(shè)備為鈣鈦礦太陽能電池、OLED、鋰電池、量子點LED、OPV等產(chǎn)業(yè)研發(fā)專用設(shè)備，設(shè)備可工藝制備納米級氧化物、氮化物、金屬等薄膜材料。該濺射系統(tǒng)對接手套箱系統(tǒng)實現(xiàn)全制備過程在無水無氧手套箱環(huán)境下進行。PVD與Glove box硬件無縫對接，操控融合一體，實現(xiàn)試驗樣品在真空手套箱環(huán)境中完成旋涂、濺射、測試等工藝流程。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點：

★系統(tǒng)可選擇配備低氣壓濺射技術(shù)，制備薄膜致密，對基底損傷小

★J濺射腔體采用SUS304不銹鋼材料，腔體內(nèi)表面包括屏蔽板全部鏡面拋光，可以獲得潔凈的工作環(huán)境和良好的真空度

★西門子PLC+觸摸屏手自動控制或電腦+PLC全自動控制可選

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：1500×850×1900/1500×850×1900

★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：440×440×450/550×440×450

★基片臺：**溫度 500℃ 控溫誤差±1℃

★真空極限：（2E﹣05）Pa

★抽速保壓：（8E﹣04）Pa≤20min保壓12小時≤5pa     

★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★濺射靶可選取矩形靶（210mm×210mm/300mm×300mm）和圓形靶濺射尺寸