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PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備

品牌

普迪真空

產(chǎn)地

湖北

樣本

暫無(wú)
武漢普迪真空科技有限公司

高級(jí)會(huì)員

|

第1年

|

生產(chǎn)商

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產(chǎn)品摘要

該設(shè)備主要用于開(kāi)發(fā)高品質(zhì)、大面積生長(zhǎng)金剛石厚膜產(chǎn)品主要用作砂輪修整工具坯料、拉絲模芯坯料、光學(xué)窗口、散熱襯底等工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及科技型生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)優(yōu)質(zhì)金剛石厚膜新產(chǎn)品。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn):

★PLC+觸摸屏方式,完善的邏輯互鎖保護(hù)功能

★機(jī)架上方安裝紅外測(cè)溫儀固定裝置,固定測(cè)溫儀位置,可方便升降

★該設(shè)備可成功制備直徑達(dá)φ85mm厚度0.1-4mm大面積高質(zhì)量金剛石膜

設(shè)備參數(shù):

★真空腔室:圓柱型固定式真空腔體約為Ф400mm×H500mm/Ф650mm×H500mm

★生長(zhǎng)臺(tái):沉積臺(tái)為80mm,高度為110mm/沉積臺(tái)為100mm,高度為110mm

★抽速:從大氣抽至 1Pa≤20min


創(chuàng)新點(diǎn)

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用戶評(píng)論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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