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廈門(mén)韞茂科技有限公司
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公司介紹

廈門(mén)韞茂科技有限公司

廈門(mén)韞茂科技有限公司成立于2018年,團(tuán)隊(duì)成員擁有豐富的薄膜沉積工藝及設(shè)備開(kāi)發(fā)產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗(yàn)。公司目前已擁有各類(lèi)**技術(shù)近50項(xiàng),入選國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)及國(guó)家級(jí)專精特新“小巨人”企業(yè)。韞茂科技專注于鋰電池、光伏、Mini/Micro LED、先進(jìn)光學(xué)、碳化硅、集成電路、超導(dǎo)材料和器件等領(lǐng)域薄膜沉積設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn),目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD 化學(xué)氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設(shè)備為核心的產(chǎn)品矩陣。憑借在先進(jìn)材料設(shè)備業(yè)務(wù)方面多年的經(jīng)驗(yàn),韞茂科技為泛半導(dǎo)體、新能源新材料領(lǐng)域開(kāi)發(fā)和生產(chǎn),提供最先進(jìn)的納米工藝設(shè)備和服務(wù)解決方案。根據(jù)您的特殊需求,我們

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主推產(chǎn)品

公斤級(jí)粉體原子層沉積鍍膜系統(tǒng)
型號(hào):G1000

國(guó)內(nèi)高端粉末式原子層沉積系統(tǒng)GM系列原子層沉積(Atomiclayerdeposition)是通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。產(chǎn)品描述廈門(mén)韞茂科技公司的GM系列自動(dòng)粉末原子層沉積設(shè)備它可以在微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長(zhǎng),GM1000的反應(yīng)室可自動(dòng)運(yùn)行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積),設(shè)備配有獨(dú)立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng),保證工藝溫度均勻。該系統(tǒng)具有專利粉末樣品桶、動(dòng)態(tài)粉末流化機(jī)構(gòu)、全自動(dòng)

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單腔型高真空蒸鍍系統(tǒng)
型號(hào):QBT-L

單腔型高真空蒸鍍系統(tǒng)產(chǎn)品詳情:?jiǎn)吻辉O(shè)計(jì),緊湊經(jīng)濟(jì),輕松擁有高質(zhì)量鍍膜系統(tǒng)。技術(shù)參數(shù):1極限真空:<2E-7Torr2排氣速率:從ATM到3E-6Torr<15min3基板加熱:RT-300oC4高分辨率鍍膜速率顯示及控制:±0.015?5**基板尺寸:200mm6前后門(mén)設(shè)計(jì)可集成手套箱:可選配手套箱7人機(jī)界面:自動(dòng)化人機(jī)操作界面8安全:全工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)安全互鎖,工業(yè)安全聯(lián)鎖,報(bào)警裝置廈門(mén)韞茂科技有限公司憑借在先進(jìn)材料設(shè)備業(yè)務(wù)方面多年的經(jīng)驗(yàn),韞茂為新型芯片,半導(dǎo)體和鋰電池領(lǐng)域的新材料開(kāi)發(fā)和生產(chǎn),提供***的納米工藝設(shè)備和服務(wù)解決方案。根據(jù)您的特殊需求,我們?yōu)槟ㄖ拼蛟靹?chuàng)新納米加工平臺(tái),保證

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桌面型原子層沉積系統(tǒng)
型號(hào):MINI

桌面式平片原子層沉積系統(tǒng)原子層沉積(Atomiclayerdeposition)是通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。產(chǎn)品描述廈門(mén)韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設(shè)備是先進(jìn)材料研究的有力設(shè)備之一,它可以在6寸晶元(向下兼容)和微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積,具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,設(shè)各配有獨(dú)立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng),保證工藝溫度均勻,該系統(tǒng)具有專利粉末樣品桶、晶元載盤(pán),全自動(dòng)溫控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動(dòng)溫

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公斤級(jí)粉體原子層沉積鍍膜系統(tǒng)

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單腔型高真空蒸鍍系統(tǒng)

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桌面型原子層沉積系統(tǒng)

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組合推薦產(chǎn)品

  • 實(shí)驗(yàn)設(shè)備
  • 混合機(jī)
雙腔型高真空高速蒸鍍系統(tǒng)

型號(hào):QBT-I

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高真空磁控濺射系統(tǒng)

型號(hào):PVD-100

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雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

型號(hào):QBT-P

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超高真空雙傾角室蒸發(fā)設(shè)備

型號(hào):QBT-E

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公斤級(jí)粉體原子層沉積鍍膜系統(tǒng)

型號(hào):G1000

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雙腔型高真空高速蒸鍍系統(tǒng)

型號(hào):QBT-I

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高真空磁控濺射系統(tǒng)

型號(hào):PVD-100

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雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

型號(hào):QBT-P

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超高真空雙傾角室蒸發(fā)設(shè)備

型號(hào):QBT-E

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公斤級(jí)粉體原子層沉積鍍膜系統(tǒng)

型號(hào):G1000

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