- 品牌:韞茂科技
- 產(chǎn)地:福建
- 關(guān)注度:1952
- 型號:PVD-100
- 報價:面議
- 信息完整度:
高真空磁控濺射系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù):
1高真空腔體:2個腔體,包括負(fù)荷鎖及Sputtering,極限真空,極限壓力<5e-9 Torr
2排氣速率:從ATM到1E-7 Torr<20分鐘(負(fù)載鎖)
3樣品臺:**4寸Wafer,可加熱RT-300oC
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廈門韞茂科技有限公司成立于2018年,團(tuán)隊成員擁有豐富的薄膜沉積工藝及設(shè)備開發(fā)產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗。公司目前已擁有各類**技術(shù)近50項,入選國家級高新技術(shù)企業(yè)及國家級專精特新“小巨人”企業(yè)。韞茂科技專注于鋰電池、光伏、Mini/Micro LED、先進(jìn)光學(xué)、碳化硅、集成電路、超導(dǎo)材料和器件等領(lǐng)域薄膜沉積設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn),目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD 化學(xué)氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設(shè)備為核心的產(chǎn)品矩陣。憑借在先進(jìn)材料設(shè)備業(yè)
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