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雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
  • 品牌:韞茂科技
  • 產地:福建
  • 關注度:1798
  • 型號:QBT-P
  • 報價:面議
  • 信息完整度:
核心參數
    產品介紹

    雙腔室超高真空雙磁控測射系統(tǒng) QBT-P 


    微信圖片_20220223162253.jpg

    磁控濺射技術原理

        在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場。當濺射產生的二次電子在陰極位降區(qū)內被加速為高能電子后,并不直接飛向陽極,而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉移能量,使之電離而本身變成低能電子。這些低能電子*終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收,避免高能電子對極板的強烈轟擊,消除了二級濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷,體現出磁控濺射中極板“低溫”的特點。由于外加磁場的存在,電子的復雜運動增加了電離率,實現了高速濺射。


    磁控濺射技術特點

        成膜速率高,基片溫度低,膜的粘附性好,可實現大面積鍍膜


    微信圖片_20220223162304.jpg


    技術參數

        

    QBT-P 技術參數 Technical Specifications (超導Ta/TiN/NbN/Al/Nb等制備)
    超高真空腔體 UHV Chamber2個UHV Chamber,包括Loadlock及Sputtering, 極限真空Ultimate Pressure<3E-9Torr
    排氣速率Pumping Spead從ATM到1E-7Torr<20min (loadlock)
    基板加熱 Wafer HeatingRT-900oC
    離子束清洗 Ion Milling考夫曼離子源, Ion Energy 100-600eV, 100-1200eV; Ion Beam Current:20-200mA, Ф100基板刻蝕均一性<3%
    磁控濺射SputteringDC or RF Power Supply, 基板與靶材距離連續(xù)可調Wafer and Target Space can Change Continoulsly
    基板傳輸 Wafer Transfer高度可靠和可重復的基板傳輸能力
    人機界面 HMI全自動化人機操作界面
    安全Safety工業(yè)標準安全互鎖Industry Safety Interlock,報警Alarm,EMO


    工藝展示


    微信圖片_20220223162258.jpg


    問商家

    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的工作原理介紹?
    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的使用方法?
    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)多少錢一臺?
    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)使用的注意事項
    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的說明書有嗎?
    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的操作規(guī)程有嗎?
    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的報價含票含運費嗎?
    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)有現貨嗎?
    • 雙腔室UHV磁控濺射鍍膜系統(tǒng)包安裝嗎?
    工商信息

    企業(yè)名稱

    廈門韞茂科技有限公司

    企業(yè)類型

    信用代碼

    91350200MA31JEYQ4Y

    法人代表

    注冊地址

    成立日期

    注冊資本

    有效期限

    經營范圍

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    廈門韞茂科技有限公司成立于2018年,團隊成員擁有豐富的薄膜沉積工藝及設備開發(fā)產業(yè)化經驗。公司目前已擁有各類**技術近50項,入選國家級高新技術企業(yè)及國家級專精特新“小巨人”企業(yè)。韞茂科技專注于鋰電池、光伏、Mini/Micro LED、先進光學、碳化硅、集成電路、超導材料和器件等領域薄膜沉積設備的研發(fā)與生產,目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD 化學氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設備為核心的產品矩陣。憑借在先進材料設備業(yè)

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