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科研級磁控濺射設(shè)備—MS-400
科研級磁控濺射設(shè)備—MS-400

參考價格

面議

型號

科研級磁控濺射設(shè)備—MS-400

品牌

致真精密

產(chǎn)地

安徽

樣本

暫無
合肥致真精密設(shè)備有限公司

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MS-400磁控濺射設(shè)備是一款多功能多靶磁控濺射系統(tǒng),具有超高真空,單原子層沉積精度,設(shè)備維護(hù)簡單的特點。MS-400系統(tǒng)標(biāo)配6個2inch共焦超高真空陰極,滿足實驗室或企業(yè)實驗室中工藝研究的需求,維護(hù)簡單,運行穩(wěn)定。

性能參數(shù)

晶圓尺寸

4inch向下兼容

鍍膜均勻性

優(yōu)于±2%

極限真空

優(yōu)于1×10-9mbar(金屬密封)

優(yōu)于1×10-8mbar(膠圈密封)

溫控

RT-800℃,可選**1200℃

陰極數(shù)量

6~7個2inch,共焦濺射

客戶案例1

通過本MS-400科研級磁控濺射,制備了具有強(qiáng)PMA的Mo基結(jié)構(gòu)的單自由層和雙自由層MTJ磁隧道結(jié)薄膜。


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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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