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科研級磁控濺射設(shè)備—MS-400品牌
致真精密產(chǎn)地
安徽樣本
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MS-400磁控濺射設(shè)備是一款多功能多靶磁控濺射系統(tǒng),具有超高真空,單原子層沉積精度,設(shè)備維護(hù)簡單的特點。MS-400系統(tǒng)標(biāo)配6個2inch共焦超高真空陰極,滿足實驗室或企業(yè)實驗室中工藝研究的需求,維護(hù)簡單,運行穩(wěn)定。
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 4inch向下兼容 |
鍍膜均勻性 | 優(yōu)于±2% |
極限真空 | 優(yōu)于1×10-9mbar(金屬密封) 優(yōu)于1×10-8mbar(膠圈密封) |
溫控 | RT-800℃,可選**1200℃ |
陰極數(shù)量 | 6~7個2inch,共焦濺射 |
客戶案例1
通過本MS-400科研級磁控濺射,制備了具有強(qiáng)PMA的Mo基結(jié)構(gòu)的單自由層和雙自由層MTJ磁隧道結(jié)薄膜。
暫無數(shù)據(jù)!