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電子束蒸發(fā)設備—E-Beam-HV品牌
致真精密產(chǎn)地
安徽樣本
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電子束蒸發(fā)設備可以在高真空和超高真空環(huán)境下實現(xiàn)精確的多層薄膜制備。線性電子束槍可以實現(xiàn)多種材料的蒸發(fā)。設備可選配考夫曼離子源實現(xiàn)晶圓的預清洗，可用于超導量子等領域，適用于高校及企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)場合。
性能參數(shù)
| 晶圓尺寸 | 4inch~8inch |
| 極限真空 | 優(yōu)于1×10-7mbar |
| 溫控 | RT-800℃ |
| 電子束槍 | 多坩堝旋轉電子束槍，可選配坩堝數(shù)量和容量（標配，10KW，8×20cc） |
六大特色 懂你所需
企業(yè)/高校性能之選
測試案列
隨著超導量子計算的發(fā)展，高校實驗室和企業(yè)對于超導量子電路的核心器件——約瑟夫森結有著極高的制備要求。該設備可專門用于制備Al基、Nb基等各類約瑟夫森結，以下是制備的約瑟夫森結的光學照像。
約瑟夫森結的光學圖像
溫度測試
下圖是加熱臺溫度測試圖，加熱臺可以實現(xiàn)**800攝氏度的晶圓加熱，并且電子束蒸發(fā)過程中溫升較低，滿足不同材料的沉積需求。
暫無數(shù)據(jù)！
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