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脈沖激光沉積設(shè)備—PLD-400品牌
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脈沖激光沉積設(shè)備是高校和科研院所常用的氧化物和多組分薄膜沉積設(shè)備，該設(shè)備具有簡(jiǎn)單可靠、運(yùn)行穩(wěn)定的特點(diǎn)。PLD-400型脈沖激光沉積設(shè)備，標(biāo)配6個(gè)1inch靶材，靶材可以原位更換，配合RHEED和準(zhǔn)分子激光器可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的沉積。
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 2inch |
極限真空 | 5×10-9mbar |
溫控 | RT-1200℃ |
| 靶臺(tái)數(shù)量 | 6個(gè)1inch 靶材或3個(gè)2inch靶材 靶臺(tái)公自轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)（可單獨(dú)旋轉(zhuǎn)） |
| 靶材更換 | 原位更換靶材 |
| 激光源 | 準(zhǔn)分子激光器 |
| 常用材料 | BFO、SRO、VO2等 |
| 占地面積 | 3m L*2m W*2m H |
| 可選 | 自動(dòng)傳輸、反應(yīng)沉積、膜厚儀、工藝菜單、高壓RHEED等 |
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