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鈣鈦礦太陽(yáng)能電池磁控鍍膜設(shè)備JCPS400品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱：鈣鈦礦太陽(yáng)能電池磁控濺射設(shè)備（鍍膜機(jī)+手套箱復(fù)合型）
設(shè)備型號(hào)：JCPS400
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結(jié)構(gòu)：SUS304方箱式，配有前、后門
真空腔室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm
加熱溫度：室溫～500℃
基片臺(tái)尺寸：抽屜式：120mm×120mm可旋轉(zhuǎn)、升降
膜厚不均勻性：≤±5.0%（100mmx100mm范圍內(nèi)）
蒸發(fā)源/濺射靶：3/4 英寸靶：2-3只 DC/RF電源及偏壓電源
晶振膜厚監(jiān)控儀：國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口（可選）
控制方式：PLC/PC控制（可選）
占地面積：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
總功率：≥8kW 三相五線制
1.國(guó)內(nèi)技術(shù)**、市場(chǎng)占有率**，設(shè)計(jì)優(yōu)化，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；
2.適用于磁控濺射與手套箱環(huán)境有機(jī)融合，實(shí)現(xiàn)制備、封裝、測(cè)試等工藝無(wú)縫對(duì)接，廣泛用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池 /OPV 有機(jī)太陽(yáng)能電池及 OLED薄膜等研究系統(tǒng)等。
3.磁控主要是濺射氧化鎳，制備空穴層，濺射ITO制備透明電極，濺射Cu，制備背電極
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